快速概覽專利現況與有效性的潛在問題
- 書目資料
- 事件歷程 — 歷程
- 請求項揭露程度 —請求項剖析
➛檢視專利的請求項被前案揭露程度
- 潛在問題
➛§112 - 潛在 §112 問題 — 請求項分析
➛§102 - 潛在 §102 前案 — 同族前案， 前案調查
➛§103 - 潛在§103 前案 — 同族前案，前案調查， 相似前案
- 同族當前狀態
總覽 — 專利品質與有效性摘要
在總覽頁頂部事件歷程提供此專利的ㄌ，請求項揭露程度，與潛在問題的概覽。
事件歷程
本區塊顯示該專利是否涉及任何美國訴訟或遭遇有效性挑戰。涵蓋的範圍包括地方法院、聯邦巡迴上訴法院 (CAFC)、最高法院、國際貿易委員會 (ITC)、專利審判暨上訴委員會 (PTAB)。
請求項揭露程度
依據專利審查/複審階段的前案，針對技術特徵的關鍵字詞計算每個請求項被揭露的比例。
潛在問題
根據說明書對請求項的解釋程度，及潛在前案列表的數量，快速掌握專利可能遭遇的有效性問題。
總覽 — 請求項揭露程度
顯示請求項中的技術特徵在審查/複審歷程中被引證前案揭露的程度。
有三種揭露程度指標：
紅色
: 高度揭露 - 請求項中，80%以上的技術特徵被揭露
黃色 
: 部分揭露 - 請求項中，1% ~ 79% 的技術特徵被揭露
綠色 
:未揭露- 0%揭露
向下捲動至「請求項揭露程度」圖表，可以查看每個獨立項各自的被揭露的狀況。
您同時可以查看在審查/複審歷程中，共有多少篇§102/§102前案被用於揭露這些請求項。
該圖表中的兩種不同的披露率（%）反映了該專利被披露的程度，即 ：
1）單一前案揭露比例：顯示單一前案最多揭露該請求項多少比例的技術特徵
或
2）多個前案揭露比例：顯示所有前案共揭露該請求項多少比例的技術特徵
全面的分析功能在 前案剖析 頁面。
總覽 — 潛在問題 ： §112
顯示說明書對請求項支持的明確程度，未對應到說明書的請求項用語越多，則表示權利範圍的解釋越模糊。
根據指標的百分比，可能的結果有：
紅色 ： 高 - 高度模糊，超過5%的請求項用語未對應到說明書
黃色
： 中 - 少於 5% 未對應 請求項用語未對應到說明書
綠色
： 低 - 所有的請求項用語都對應到 （0%未找到）
向下滾動到”請求項分析“圖表區塊查看更多此指標相關資訊。
在這裡，您可以查看所有未對應到說明書的請求項用語數量，以及字詞在每個獨立請求項中的分佈。您也可以在「請求項分析」功能中，查看每個請求項用語對應的說明書段落。
要查看獨立請求項或被對應到的說明書的請求項，請查看請求項分析了解更多細節。
總覽 — 潛在問題：§102
此一指標反映了Quality Insights所認定的適格專利引證的數量，這些專利以前在審查和再審/複審過程中沒有被考慮過，並且非常有可能成為潛在的§102 前案。
這個指標是由下以的數量計算出的：
- 被審查委員引用的家族成員的§102前案
（詳見 同族前案 頁以獲得§102引證前案的完整列表）
- 在第2階和第3階前案清單中的§102前案
（詳見前案調查頁查找最多至6階的前案 ）
潛在問題 —§102有以下三種指標:
紅色： 高 - 3篇以上
黃色： 中 - 1-2 篇
綠色： 低 - 無
在 "總覽 "頁面上找到的潛在前案列表包括兩個清單--潛在的§102和§103前案。通過點擊列表頂部的數字在這兩個列表之間進行切換。
這份清單包括專利的引證/被引證的§102前案的§102前案。，其中最多有3階引證來自專利本身的引用。 §102 出處包括在審查委員的駁回中引用的引文（在訴訟過程中可以找到）以及在複審和PTAB中引用的引文。
完整清單請參閱 前案調查頁.
總覽 — 潛在問題： §103
潛在的§103前案指標反映了Quality Insights查找出的適格專利引證，這些專利以前在審查和再審/複審過程中沒有被考慮過，並且非常有可能成為潛在的§103前案。
這個指標是由下以的數量計算出：
- 審查委員引用過的家庭成員的§103前案
（完整的 §103引證前案，請詳見 同族前案頁)
- 第2階和第3階前案清單中的非§102前案
（在 前案調查 頁可以查找最多至6階前案）
- 高相關聯的相似前案
（在 相似前案頁可檢視詳細清單）
有以下三種指標及定義：
紅色：高 - 10篇以上
黃色： 中 - 1-9 篇
綠色： 低 - 無
你可以在最後一欄查看中找到的每個被列的潛在前案的“前案適格性”依據。
你也可以在檢視模式之間進行切換，進行比對，或匯出列表。
總覽 — 同族當前狀態
同族當前狀態圖表顯示了專利家族成員的法律和涵蓋狀況，可發掘在其他國家的潛在糾紛或機會。
通過點擊圖表頂部的數字部分，你可以在每個相應的列表（見底部）之間切換，以了解專利家庭成員的總數、法律狀態為有效中和放棄的家族成員清單。
每個清單中的專利都可以進行比對、下載或導出到 Patent Vault。